据 ASML 称，英特尔于周二（7 月 15 日）开始使用 ASML 下一代高数值孔径（High NA）极紫外（EUV）光刻设备来生产 Panther Lake 笔记本处理器。此举继 2024 年的试验性试产之后，英特尔现已在大规模制造中部署该先进工具，以提升生产效率。