日本Nikkei 225在5月21日上涨3.1%，韩国KOSPI反弹8.4%（因半导体股票大涨）

据 Jin10 称，5 月 21 日，日本的日经 225 指数和韩国的 KOSPI 指数分别上涨 3.1% 和 8.4%，半导体股票在两大市场中领涨。

在日本，软银集团在有关 OpenAI 和 SB Energy 的 IPO 消息传出后上涨 19.85%，而芯片制造商 Kioxia 上涨 8.7%，Socionext 上涨 18.9%，Ibiden 上涨 14.3%。在韩国，三星电子上涨 8.5%，SK 海力士跳涨 11.1%，LG 电子暴涨 29.83% 触及日内涨停线，其他半导体参与者 Jishu Semiconductor 和 Hanmi Semiconductor 分别上涨 24% 和 15%。